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功能材料-刘春忠
2021-06-01 21:14  

教师信息

姓名

刘春忠

性别

 

职称

教授

学历

博士研究生

电话



email

czliu@sau.edu.cn

地址

辽宁省沈阳市道义南大街37

邮编

110136

ø 教育经历

(1)2001/03-2005/06,中科院金属研究所,沈阳材料科学国家(联合)实验室非平衡材料研究部,博士,导师:卢柯。

(2) 1994/09 -1996/07,哈尔滨工业大学,材料科学与工程学院,硕士,导师:崔忠圻。

(3)  1986/09 -1990/07,山东大学,物理系,本科。

ø 工作经历

(1) 2005/07-至今,沈阳航空航天大学,材料科学与工程学院,副教授,教授,院长。

(2) 2009/06/2012/06 中航工业沈阳飞机工业有限公司(中科院金属研究所),博士后,  合作导师:蔡桂林 马宗义

(3) 1990.07-2001.03 航空工业哈尔滨飞机工业集团公司,高级工程师

 

ø 研究方向

(1) 航空铝合金

(2) 电磁功能材料

ø 授课情况

(1) 《固体物理基础》

(2) 《功能材料导论》

(3)《位错与金属强化机制》

ø 承担科研项目情况

1.省重大专项:航空用大型高精度段环挤压结构件的研发及产业化,2019.01-2021.06  1000万,在研,主持

2.航空基金项目,第三代al-li合金阳极氧化工艺优化及机制探讨,2015zf54035 2015.10-2017.10, 10万 ,结题,主持

3. 企业横向课题, 低密度高刚度铝基复合材料口盖试验件制造,沈阳601所2015/04-2015/09,25万,主持。

4. 企业横向课题,某军机用铝合金挤压棒材产品开发,忠旺集团xy2016056 ,2015/12-2016/06,30万,结题,主持。

5.企业横向课题, 低密度高刚度铝基复合材料口盖试验件实验,沈阳601所2015/04-2015/09,10万,结题,主持。

6. w/zr基非晶合金复合材料的结构与性能表征,中科院金属所,2015/04-2015/04,10万,结题,主持。

7. 铝锂合金表征,2010-2012/19.5万,主持,沈飞公司

8. 钛合金热加工模拟,2012-2013/17.5万,主持,沈飞公司

9. 热加工对铝锂合金组织性能的影响 省科技厅,2009-2012, 30万,主持。

10. 铝锂合金设计加工技术研究,1700万,主要完成人,中航工业 2009-2012

 

 

ø 代表性论著

[1] c.z. liu, t.y. kang, w. wei, k. zheng, l. fu, l. hui, j.j. wang, w.p. tong, effect of high intensity magnetic field on intermetallic compounds growth in snbi/cu microelectronic interconnect, j. alloy. compd., 509 (2011) 8475–8477. sci

[2] t.y. kang, y.y. xiu, l. hui, j.j. wang, w.p. tong, c.z. liu, effect of bismuth on intermetallic compound growth in lead free solder/cu microelectronic interconnect, j. mater. sci. technol., 2011, 27(8), 741-745. sci

[3] t.y. kang, y.y. xiu, c.z. liu, l. hui, j.j. wang, w.p. tong, bismuth segregation enhances intermetallic compound growth in snbi/cu microelectronic interconnect, j. alloy. compd., 509 (2011) 1785–1789. sci

[4] c.z. liu, w. zhang, bismuth redistribution induced by intermetallic compound growth in snbi/cu microelectronic interconnect  j. mater. sci., 44 (1),(2009), 149-153 sci

[5] q.s. zhu; x. zhang; s.j. li; c.z. liu*; c.f. li, electrodeposition of nano-twinned cu in void-free filling for blind microvia of high density interconnect, journal of the electrochemical society, 2018, 166(1): d3097-d3099

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